[实用新型]一种MOCVD系统及其中反应气体的排气装置有效

专利信息
申请号: 201120320510.9 申请日: 2011-08-30
公开(公告)号: CN202208759U 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 陈爱华;吕青;金小亮;张伟 申请(专利权)人: 中晟光电设备(上海)有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 张静洁;徐雯琼
地址: 201203 上海市浦东新区张*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种MOCVD系统及其中反应气体的排气装置,该排气装置包括排气环,在排气环中设置了容纳冷却液并使其流通的若干内部空槽,以及使反应区域内的反应气体贯穿所述排气环排出的结构。本实用新型在实现均匀排气的同时,设置连接排气环的至少两个连杆,在排气环与连杆中设置相连通的内部空槽供冷却液循环流通,实现对排气环的冷却;并且,该排气装置还包括外环部分,离开反应区域的反应气体沿着外环部分向下流动,有效减少MOCVD系统内壁上沉积物的产生;此外,在驱动装置的作用下,使排气环上升或下降对应控制该MOCVD系统中反应室与外部连通的通道的闭合和打开,方便机械手等经由该通道进入反应室来取放外延基片,实现自动化操作。
搜索关键词: 一种 mocvd 系统 其中 反应 气体 排气装置
【主权项】:
一种MOCVD系统中反应气体的排气装置,其特征在于,所述排气装置包含一环状的排气环(400),其在该MOCVD系统的反应室内环绕设置;所述排气环(400)设置有若干个内部空槽(412),以容纳冷却液并使冷却液在所述若干个内部空槽(412)内流动;所述排气环(400)还设置有贯穿该排气环(400)的结构,以使反应区域内的反应气体通过该贯穿结构排出。
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