[实用新型]带有局部冷却装置的多晶硅热场有效

专利信息
申请号: 201120321289.9 申请日: 2011-08-30
公开(公告)号: CN202246974U 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 张志强 申请(专利权)人: 常州天合光能有限公司
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B28/06;C30B29/06
代理公司: 常州市维益专利事务所 32211 代理人: 路接洲
地址: 213031 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种带有局部冷却装置的多晶硅热场,包括由上炉体和下炉体组成的炉腔,所述的炉腔内设置有一个保温腔,所述的保温腔底板上设置有冷却器,所述的冷却器呈回字型往复结构布置,冷却器的底部连通有导管,所述的导管穿过保温腔底板延升至炉腔外部。采用本实用新型可以增加多晶硅助凝块底部温度分布的均匀性,在利用籽晶诱导法生长铸锭单晶时,在化料后期强化边缘冷却效果,保护籽晶不被完全融化;在化料过程中可以提高热场温度,加快籽晶以上部分硅料的熔化速度,缩短生长周期;能够减少晶体内由于温度梯度差引起的位错等晶体缺陷密度,提高晶体质量;在结晶初期,提高径向温度梯度,促进晶粒横向生长,增大多晶硅柱状晶晶粒的直径。
搜索关键词: 带有 局部 冷却 装置 多晶 硅热场
【主权项】:
一种带有局部冷却装置的多晶硅热场,包括由上炉体和下炉体组成的炉腔,所述的炉腔内设置有一个保温腔,其特征在于:所述的保温腔底板上设置有冷却器,所述的冷却器呈回字型往复结构布置,冷却器的底部连通有导管,所述的导管穿过保温腔底板延升至炉腔外部。
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