[实用新型]带有局部冷却装置的多晶硅热场有效
申请号: | 201120321289.9 | 申请日: | 2011-08-30 |
公开(公告)号: | CN202246974U | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 张志强 | 申请(专利权)人: | 常州天合光能有限公司 |
主分类号: | C30B11/00 | 分类号: | C30B11/00;C30B28/06;C30B29/06 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 路接洲 |
地址: | 213031 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种带有局部冷却装置的多晶硅热场,包括由上炉体和下炉体组成的炉腔,所述的炉腔内设置有一个保温腔,所述的保温腔底板上设置有冷却器,所述的冷却器呈回字型往复结构布置,冷却器的底部连通有导管,所述的导管穿过保温腔底板延升至炉腔外部。采用本实用新型可以增加多晶硅助凝块底部温度分布的均匀性,在利用籽晶诱导法生长铸锭单晶时,在化料后期强化边缘冷却效果,保护籽晶不被完全融化;在化料过程中可以提高热场温度,加快籽晶以上部分硅料的熔化速度,缩短生长周期;能够减少晶体内由于温度梯度差引起的位错等晶体缺陷密度,提高晶体质量;在结晶初期,提高径向温度梯度,促进晶粒横向生长,增大多晶硅柱状晶晶粒的直径。 | ||
搜索关键词: | 带有 局部 冷却 装置 多晶 硅热场 | ||
【主权项】:
一种带有局部冷却装置的多晶硅热场,包括由上炉体和下炉体组成的炉腔,所述的炉腔内设置有一个保温腔,其特征在于:所述的保温腔底板上设置有冷却器,所述的冷却器呈回字型往复结构布置,冷却器的底部连通有导管,所述的导管穿过保温腔底板延升至炉腔外部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州天合光能有限公司,未经常州天合光能有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201120321289.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。