[实用新型]一种用于硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴有效

专利信息
申请号: 201120332988.3 申请日: 2011-09-06
公开(公告)号: CN202238738U 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 王乃仁;朱文军;高伟;薛阿兰 申请(专利权)人: 西安烽火光伏科技股份有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 涂秀清
地址: 710077 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型涉及硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴设备领域,用于硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴主要由螺纹接口、通孔、喷口构成,专用喷嘴的一端为螺纹接口,另一端开有通槽,通槽内设有V形坡口,V形坡口上开有与通孔相通的椭圆形状的喷口,椭圆的偏心率e的数值参数范围为:0.6≤e≤0.8,经专用喷嘴喷射出的扇形喷淋水柱配合相应的喷淋压力,喷淋位置为硅片与玻璃的粘胶面区域,使得清洗后的水在重力的作用下从上而下流出而在硅片与玻璃粘接部分产生20%-30%的水流重叠,有效降低地球重力引起的边缘效应,提高了硅片清洗的效率及成品率,增强了硅片表面的清洗效果,降低硅片表面形成花斑的概率。
搜索关键词: 一种 用于 硅片 脱胶 清洗 系统 中的 专用 喷嘴
【主权项】:
一种用于硅片脱胶清洗机预清洗系统中的专用喷嘴,专用喷嘴主要由螺纹接口、紧固平台、通孔、喷口构成,专用喷嘴的一端为螺纹接口,另一端开有通槽,通槽中部内设有V形坡口,V形坡口上开有喷口,喷口与通孔相通,其特征在于,喷口的形状为椭圆,椭圆的偏心率e的数值参数范围为:0.6≤e≤0.8,椭圆的长轴与通槽方向相同,长轴的长度为V形坡口宽度的80%至90%。
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