[实用新型]一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔有效

专利信息
申请号: 201120352723.X 申请日: 2011-09-20
公开(公告)号: CN202259153U 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 黄成强;汪明刚;陈波;李超波 申请(专利权)人: 中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 赵芳;徐关寿
地址: 314006 浙江省嘉兴市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔,包括腔体,所述腔体上开有进出片口、机械泵接口、下电极接口、分子泵接口,所述腔体的上端安装有顶盖和石英盖,所述腔体内安装有匀气盘、穿过腔体底部和匀气盘的工艺气体管道,所述工艺气体管道的气体出口设置在匀气盘上方并正对匀气盘中心;所述匀气盘的中间开有大于下电极直径的下电极通口,所述匀气盘上开有多个通气孔,横向上相邻所述通气孔的间距是等差数列递增,纵向上相邻所述通气孔的间距从中心到边缘是等差数列递减。本实用新型的有益效果:等离子体密度最大、均匀性最好、能量最高;成本低、可靠性高。
搜索关键词: 一种 刻蚀 坚硬 无机 材料 icp
【主权项】:
一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔,包括腔体,所述腔体上开有进出片口、机械泵接口、下电极接口、分子泵接口,所述腔体的上端安装有顶盖和石英盖,其特征在于:所述腔体内安装有匀气盘、穿过腔体底部和匀气盘的工艺气体管道,所述工艺气体管道的气体出口设置在匀气盘上方并正对匀气盘中心;所述匀气盘的中间开有大于下电极直径的下电极通口,所述匀气盘上开有多个通气孔,横向上相邻所述通气孔的间距是等差数列递增,纵向上相邻所述通气孔的间距从中心到边缘是等差数列递减。
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