[实用新型]一种磨料流精密研磨抛光设备有效

专利信息
申请号: 201120364845.0 申请日: 2011-09-23
公开(公告)号: CN202317958U 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 张克华;袁亮亮;梅广益;程光明;闵力;许永超;张嘉瑜 申请(专利权)人: 浙江师范大学
主分类号: B24B35/00 分类号: B24B35/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 321004 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型的目的是提供一种磨料流精密研磨抛光设备,包括机身,液压站、上研磨机构、下研磨机构、推进合模机构、控制台。所述机身为C型机身,所述研磨机构包括研磨缸以及用于推动磨料缸工作的动力缸,下研磨机构固定在工作台面下方,上研磨机构固定在合模机构下方的推进板上,工件通过合模机构固定在上、下研磨机构之间,上下研磨缸内的活塞反复推动磨料流过工件型腔进行研磨抛光。通过磨料研磨抛光的工件型腔,表面光洁度达到镜面级要求,有效消除工件残余应力,最终提高工件质量。
搜索关键词: 一种 磨料 精密 研磨 抛光 设备
【主权项】:
一种磨料流精密研磨抛光设备,包括机身(2)、上研磨机构(4)、下研磨机构(7)、推进合模机构(3)、控制台(8),其特征在于:研磨机构包括研磨缸(42)以及用于推动磨料缸工作的动力缸(41),下研磨机构(7)固定在工作台面(6)下方,上研磨机构(4)固定在推进合模机构(3)下方的推进板(32)上,所述推进合模机构(3)包括推进合模运动的液推进缸(31)、推进板(32)以及夹持工件(5)的夹具(33),研磨缸包括研磨缸筒(42)及活塞(43),研磨活塞(43)上装有青铜套(44),机身(2)上设有液压站动力系统(1)以及带触摸屏的PLC控制系统装置控制台(8)。
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