[实用新型]数码转印膜结构有效
申请号: | 201120379109.2 | 申请日: | 2011-09-30 |
公开(公告)号: | CN202264513U | 公开(公告)日: | 2012-06-06 |
发明(设计)人: | 刘丽华 | 申请(专利权)人: | 刘丽华 |
主分类号: | B41M5/44 | 分类号: | B41M5/44;B44C1/165 |
代理公司: | 深圳市国科知识产权代理事务所(普通合伙) 44296 | 代理人: | 陈永辉 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种数码转印膜结构,它包括:一保护层,所述保护层具有一粗糙的下表面;一透明膜,所述透明膜设置于保护层的下表面;一离型层,所述离型层设置于透明膜的下表面;一印刷层,所述印刷层设置于离型层的下表面;一粘接层,所述粘接层设置于印刷层的下表面。本实用新型的有益效果在于:本实用新型通过在所述的剥离层上增设一保护层,该保护层为采用合成树脂制成的黑色薄膜,该保护膜可有效保护印刷层,防止印刷层与剥离层之间易脱落的问题,也对剥离层起到了很好的保护作用,使其在使用的过程中更加方便。 | ||
搜索关键词: | 数码 膜结构 | ||
【主权项】:
一种数码转印膜结构,其特征在于,它包括:一保护层,所述保护层具有一粗糙的下表面;一透明膜,所述透明膜设置于保护层的下表面;一离型层,所述离型层设置于透明膜的下表面;一印刷层,所述印刷层设置于离型层的下表面;一粘接层,所述粘接层设置于印刷层的下表面。
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