[实用新型]平面结构型超高压二极管芯片有效

专利信息
申请号: 201120398926.2 申请日: 2011-10-19
公开(公告)号: CN202259305U 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 汪良恩;裘立强;谢盛达;葛宜威 申请(专利权)人: 扬州杰利半导体有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/861
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 225008 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 平面结构型超高压二极管芯片。涉及平面结构超高压二极管芯片。耐温性能高,正反向浪涌能力有较大提升。本体呈薄片状,本体上部设有主结和顶面电极,本体下部设有衬底和底面电极,在主结外圈还设有至少两圈场限环;在最外圈场限环外部还设有一圈截止环;至少两圈场限环的顶面高度与主结顶面高度一致,至少两圈场限环的深度与主结的深度一致;截止环的顶面高度与主结的顶面高度一致。本实用新型在芯片本体顶部最外圈设置截止环后,能够有效防止电荷扩展到顶部边角,避免发生短路。本实用新型既实现了产品的增压,又能避免电场扩展。大大提升产品高温性能,达到Tj=175℃不失效,正反向浪涌能力有较大提升。通常被封装在三相、单项整流桥和各种混合模型中。
搜索关键词: 平面 结构 超高压 二极管 芯片
【主权项】:
平面结构型超高压二极管芯片,所述芯片本体呈薄片状,芯片本体上部设有主结和顶面电极,芯片本体下部设有衬底和底面电极,其特征在于,在所述主结外圈还设有至少两圈场限环;在最外圈场限环的外部还设有一圈截止环;所述至少两圈场限环的顶面高度与所述主结顶面高度一致,所述至少两圈场限环的深度与所述主结的深度一致;所述截止环的顶面高度与所述主结的顶面高度一致。
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