[实用新型]氧化锌薄膜沉积设备有效

专利信息
申请号: 201120400506.3 申请日: 2011-10-20
公开(公告)号: CN202359197U 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 李一成;赵函一;许国青 申请(专利权)人: 理想能源设备(上海)有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/40
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 张静洁;徐雯琼
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种氧化锌薄膜沉积设备,其沉积腔的顶板与喷淋头之间形成有气体混合区,并引入有反应气体;经由所述喷淋头上开设的若干气体分配孔,将反应气体引入至喷淋头与基板支承座之间形成的反应区中;通过改变喷淋头中气体分配孔的形状或尺寸或其在喷淋头上的布置结构,或者其中至少两个的结合,使得气体混合区内的气压能够提高,因此在保持反应区中的气压不变时,增大了气体混合区与反应区之间的压力差,从而使反应气体能以较高的速度喷出,并以适当的速度到达基片表面进行ZnO薄膜的沉积处理,有效提高了反应气体的利用率和ZnO薄膜的沉积速率。
搜索关键词: 氧化锌 薄膜 沉积 设备
【主权项】:
一种氧化锌薄膜沉积设备,包含:沉积腔(21),在所述沉积腔(21)内设置的喷淋头(22)和基板支承座(23);所述喷淋头(22)设置在所述沉积腔(21)的顶部,并与所述沉积腔(21)的顶板之间形成有气体混合区(25);所述基板支承座(23)设置在所述沉积腔(21)的底部,其包含加热单元,所述加热单元用于将基板(24)的温度加热到大于160°C小于等于200°C;所述基板支承座(23)与所述喷淋头(22)之间形成反应区(26),所述基板支承座(23)与所述喷淋头(22)面向所述基板支承座(23)的底面之间的距离大于等于80mm小于等于110mm;节流阀,用于控制流入所述气体混合区(25)的反应气体流量大于等于4200sccm小于等于7000sccm;排气装置,用于从所述反应区(26)抽出气体,以控制所述反应区(26)的气压大于等于0.3mbar小于等于0.8mbar;其特征在于,所述喷淋头上设置有若干气体分配孔(221),所述若干气体分配孔(221)使得所述气体混合区(25)的气压大于等于0.9mbar小于等于1.3mbar。
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