[实用新型]一种机构运动系统及其吸能缓冲装置有效
| 申请号： | 201120420794.9 | 申请日： | 2011-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN202473868U | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 胡晶;高云峰 | 申请（专利权）人： | 深圳市大族激光科技股份有限公司;深圳市大族数控科技有限公司;深圳市大族光电设备有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/60 | 分类号： | H01L21/60 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种机构运动系统及其吸能缓冲装置，其中，该机构运动系统包括线性滑台、运动导轨、对所述线性滑台进行限位保护的吸能缓冲装置以及驱动线性滑台运动的动力装置；吸能缓冲装置包括至少一个吸能缓冲部件，其设置在线性滑台的高速运动驶向方向端，吸能缓冲部件包括吸能缓冲体和固定座，吸能缓冲体为HANENITE橡胶，其加速度峰值为1580m/s2，收缩秒数400us。由于HANENITE橡胶作为吸能缓冲体具有高阻尼、低回弹性特性，能够有效地吸收瞬间高速冲击的能量，有效避免工作台精密部件在刚性碰撞中的损坏，摆脱了机械结构的缺陷，同时该缓冲装置能够实现很小的体积尺寸，使机构更为紧凑。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 机构 运动 系统 及其 缓冲 装置 | ||
【主权项】：
一种机构运动系统，其特征在于：其包括线性滑台、运动导轨、对所述线性滑台进行限位保护的吸能缓冲装置以及驱动线性滑台运动的动力装置，所述的吸能缓冲装置包括至少一个吸能缓冲部件，所述的吸能缓冲部件包括吸能缓冲体和固定座，其设置在线性滑台的高速运动驶向方向端。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
