[实用新型]一种改善硅片表面刻蚀水膜的装置有效
| 申请号： | 201120431268.2 | 申请日： | 2011-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN202323030U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 张恒;徐照;刘凯;罗存义;李富强;匡成国;徐涛;李质磊;盛雯婷;张凤鸣 | 申请（专利权）人： | 天威新能源控股有限公司;保定天威集团有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;C30B33/10;H01L31/18 |
| 代理公司： | 成都高远知识产权代理事务所(普通合伙) 51222 | 代理人： | 李高峡 |
| 地址： | 610200 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种改善硅片表面刻蚀水膜的装置，硅片在若干滚轮支承下移动，滚轮上方有喷淋管，滚轮中有高位滚轮，高位滚轮对硅片的支承点高于前后滚轮的支承点。通过滚轮支承点的高度差，使硅片在行进过程中呈起伏状态，利用水的流动性使水膜覆盖完全，有利于提高刻蚀质量，同时减少水膜水量，使硅片在行进中水膜的水不会溢流到刻蚀槽，减少酸耗量，节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 硅片 表面 刻蚀 装置 | ||
【主权项】：
一种改善硅片表面刻蚀水膜的装置，硅片(2)在若干滚轮(3)支承下移动，滚轮上方有喷淋管(1)，其特征在于：滚轮(3)中有高位滚轮(4)，高位滚轮(4)对硅片(2)的支承点高于前后滚轮(3)的支承点。
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