[实用新型]用于湿法腐蚀及清洗工艺的兆声波换能装置有效
| 申请号： | 201120444552.3 | 申请日： | 2011-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN202363429U | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 吴仪;李春彦 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/02;B08B3/12 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100016 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于湿法腐蚀及清洗工艺的兆声波换能装置，涉及声波换能器技术领域，包括：换能器(1)、振子单元(2)、固定装置(3)、耦合介质层(4)和阻抗变压器(8)，所述振子单元(2)通过所述固定装置(3)安装于所述换能器(1)上，所述振子单元(2)与固定装置(3)之间设有所述耦合介质层(4)，所述振子单元(2)由所述阻抗变压器(8)的功率输出驱动；所述振子单元(2)包括：至少两个振子组，其中，每个振子组包括至少一个压电晶体振子，每个振子组中的多个压电晶体振子的固有机械振动频率相当。本实用新型能够产生表面湿法腐蚀清洗所需要的均匀性声场，减小或去除兆声波声场干涉现象对晶片腐蚀清洗效果的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 湿法 腐蚀 清洗 工艺 声波 装置 | ||
【主权项】：
一种用于湿法腐蚀及清洗工艺的兆声波换能装置，其特征在于，包括：换能器(1)、振子单元(2)、固定装置(3)、耦合介质层(4)和阻抗变压器(8)，所述振子单元(2)通过所述固定装置(3)安装于所述换能器(1)上，所述振子单元(2)与固定装置(3)之间设有所述耦合介质层(4)，所述振子单元(2)由所述阻抗变压器(8)的功率输出驱动；所述振子单元(2)包括：至少两个振子组，其中，每个振子组包括至少一个压电晶体振子，每个振子组中的多个压电晶体振子的固有机械振动频率相当。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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