[实用新型]一种真空镀膜用基片水平输送装置有效
| 申请号： | 201120460791.8 | 申请日： | 2011-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN202323010U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 李险峰;钱宝铎;罗松松 | 申请（专利权）人： | 蚌埠玻璃工业设计研究院;中国建材国际工程集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人： | 杨晋弘 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种真空镀膜用基片水平输送装置，包括镀膜生产线腔室，腔室的前后两端分别具有传输用的进口和出口，其特征在于：镀膜生产线腔室的左右两侧薄壁上分别设有一组传动轴（4）沿腔室前后方向均匀设置，每个传动轴（4）贯穿腔室两侧的薄壁，在腔室内的每个传动轴（4）的端部连接一个传动轮；在腔室内还设有一个基片架（1），基片架（1）具有一个水平的放置面用于放置基片，以及与放置面底面固定连接的沿腔室前后方向设置的两侧导杆（3），所述的每侧导杆（3）同时和相应一侧的至少三个传动轮接触配合。本实用新型的有益效果是本基片传输装置，不仅简化了基片输送系统的结构，而且降低了成本，并使维修保养易于进行。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 用基片 水平 输送 装置 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜用基片水平输送装置，包括镀膜生产线腔室，腔室的前后两端分别具有传输用的进口和出口，其特征在于：镀膜生产线腔室的左右两侧薄壁上分别设有一组传动轴（4）沿腔室前后方向均匀设置，每个传动轴（4）贯穿腔室两侧的薄壁，在腔室内的每个传动轴（4）的端部连接一个传动轮；在腔室内还设有一个基片架（1），基片架（1）具有一个水平的放置面用于放置基片，以及与放置面底面固定连接的沿腔室前后方向设置的两侧导杆（3），所述的每侧导杆（3）同时和相应一侧的至少三个传动轮接触配合。
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