[实用新型]表面处理设备有效
申请号: | 201120486406.7 | 申请日: | 2011-11-29 |
公开(公告)号: | CN202423235U | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
发明(设计)人: | 黄庭辉 | 申请(专利权)人: | 豪客能源科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种表面处理设备,设置在朝预定传输方向传送基板的传输装置周围,包括:第一、第二液体喷嘴,可调整角度地设置在传输装置的上方,其轴向方向与传输装置的轴向方向垂直,第二液体喷嘴朝预定传输方向与第一液体喷嘴间隔第一预定距离并相互面对地倾斜第一角度;第一、第二液位挡板,分别设置在传输装置的两侧且与传输装置相互间隔一空隙,第一、第二液位挡板位于第一与第二液体喷嘴间隔的第一预定距离内。 | ||
搜索关键词: | 表面 处理 设备 | ||
【主权项】:
表面处理设备,其特征在于,设置在一基板的一传输装置周围,该基板置放在该传输装置朝一预定传输方向传送,该预定传输方向与该传输装置的一轴向方向平行,该表面处理设备包括:一第一液体喷嘴,可调整角度地设置在该传输装置的上方,且该第一液体喷嘴的轴向方向与该传输装置的轴向方向垂直;一第二液体喷嘴,可调整角度地设置在该传输装置上方并朝该预定传输方向与该第一液体喷嘴间隔一第一预定距离,且该第二液体喷嘴的轴向方向与该传输装置的轴向方向垂直,该第一液体喷嘴及该第二液体喷嘴相互面对地倾斜一第一角度;一第一液位挡板,设置在该传输装置的其中一侧且与该传输装置相互间隔一空隙,并位于该第一液体喷嘴与该第二液体喷嘴间隔的该第一预定距离内;以及一第二液位挡板,设置在该传输装置远离该第一液位挡板的一侧且与该传输装置相互间隔该空隙,并位于该第一液体喷嘴与该第二液体喷嘴间隔的该第一预定距离内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于豪客能源科技股份有限公司,未经豪客能源科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201120486406.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:远红外电热空调基片裁切模具
- 下一篇:一种滤芯自动切割装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造