[实用新型]一种气相沉积用导流防尘控气盘有效
申请号: | 201120502566.6 | 申请日: | 2011-12-06 |
公开(公告)号: | CN202369640U | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
发明(设计)人: | 刘汝强 | 申请(专利权)人: | 刘汝强 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 吕利敏 |
地址: | 251200 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种气相沉积用导流防尘控气盘,包括顶盖和侧壁,所述的侧壁的上端与顶盖外边缘固定连接,围成喇叭状结构;所述侧壁的底端敞口为控气盘气体进入端,在所述侧壁上设有水平出气通孔,在侧壁的下端外边缘水平设置有唇边。本实用新型的导流防尘控气盘整体呈喇叭状,反应气体通过控气盘气体进入端进入控气盘,并沿所述的水平出气通孔喷出,而炉口落下的杂质颗粒却被本控气盘阻挡,沉积于唇边与炉壁之间的空隙中,保证了SiC涂层产品的性能和质量。出气孔水平设置也有效地避免了由于杂质颗粒的沉落而产生的堵塞。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉积 导流 防尘 控气盘 | ||
【主权项】:
一种气相沉积用导流防尘控气盘,其特征在于,包括顶盖和侧壁,所述的侧壁的上端与顶盖外边缘固定连接,侧壁整体成喇叭状;在所述侧壁上设有水平出气通孔,在侧壁的底端外边缘水平设置有唇边;所述侧壁的底端敞口为控气盘气体进入端,反应气体通过该控气盘气体进入端进入控气盘,并沿所述侧壁上的水平出气通孔喷出。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的