[实用新型]一种真空室中、底部槽连接密封结构有效
| 申请号： | 201120534960.8 | 申请日： | 2011-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN202450116U | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | 刘敏;刘伟;许海亮;温荣宇;张洪峰;武学勇;杨涛 | 申请（专利权）人： | 鞍钢股份有限公司 |
| 主分类号： | C21C7/10 | 分类号： | C21C7/10 |
| 代理公司： | 鞍山华惠专利事务所 21213 | 代理人： | 赵长芳 |
| 地址： | 114021 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空室中、底部槽连接密封结构，在RH炉真空室中部槽连接法兰与底部槽连接法兰之间垫有一圈宽度为40-45mm、厚度为2.5-3.5mm的硅胶密封圈。本实用新型可提高密封效果，防止法兰连接处的泄漏，实现真空室整备合格率100%；同时可大幅度提高真空室的真空度，8min真空度提升至0.2KPa的比率达到100%，杜绝了因泄漏导致的生产停顿事故，极大减少了出厂维修频次，降低了维修成本，保证了生产的顺行。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 底部 连接 密封 结构 | ||
【主权项】：
一种真空室中、底部槽连接密封结构，其特征是，在RH炉真空室中部槽连接法兰与底部槽连接法兰之间垫有一圈硅胶密封圈。
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