[实用新型]一种边缘设有直流电极的静电吸盘有效
| 申请号： | 201120544025.X | 申请日： | 2011-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN202423248U | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | 黄智林;吴狄 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种边缘设有直流电极的静电吸盘，在静电吸盘的中心设置有平板直流电极，包含环形直流电极，所述的环形直流电极设置在静电吸盘的边缘。本实用新型能够保证静电吸盘的吸力不随晶片表面的变化而减弱，可补偿静电吸盘边缘对晶片的吸力的损耗，从而能够保证氦气不泄漏，确保静电吸盘的有效性，增加静电吸盘的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 边缘 设有 直流 电极 静电 吸盘 | ||
【主权项】：
一种边缘设有直流电极的静电吸盘，在静电吸盘的中心设置有平板直流电极（1），其特征在于，包含环形直流电极（2），所述的环形直流电极（2）设置在静电吸盘的边缘。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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