[实用新型]研磨垫及研磨装置有效
申请号: | 201120571098.8 | 申请日: | 2011-12-31 |
公开(公告)号: | CN202462207U | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 周维娜;王林松;刘庚申;董天枢 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/26 | 分类号: | B24B37/26 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种研磨垫及研磨装置,所述研磨垫的研磨表面具有若干同心的圆形沟槽,所述研磨表面上还具有若干从所述研磨垫的中心向四周发散的导流槽。本实用新型还公开了一种采用如上所述的研磨垫的研磨装置。本实用新型通过在所述研磨表面上增设若干从所述研磨垫的中心向四周发散的导流槽,使得研磨表面上中心及靠近中心的圆形沟槽之间相互通过导流槽连通,从而使得位于研磨表面中心及靠近中心的研磨颗粒及研磨下来的薄膜的残留物可以经过导流槽向外流到研磨表面上整理器可以接触、整理的部位,从而有效提高研磨垫的整理、修复效果,确保研磨质量。 | ||
搜索关键词: | 研磨 装置 | ||
【主权项】:
一种研磨垫,所述研磨垫的研磨表面具有若干同心的圆形沟槽,其特征在于,所述研磨表面上还具有若干从所述研磨垫的中心向四周发散的导流槽。
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