[发明专利]曝光装置用光照射装置、曝光装置、曝光方法、基板制造方法、掩模和被曝光基板

摘要

本发明提供可不使用高价掩模而改善析像度的曝光装置用光照射装置、接近曝光装置、接近曝光方法和基板制造方法。此外，本发明提供可高效地制造滤色器或液晶面板的掩模、被曝光基板、曝光装置和曝光方法。接近曝光装置使从多个光源部(73)射出的光的主光轴(L)分散入射到积分器(74)的周边部上。此外，掩模具有：形成有曝光到被曝光基板上的图案的曝光图案；形成在与曝光图案的外缘的第一边相邻的位置上的第一校准标识；和形成在与曝光图案的外缘的跟第一边相对置的第二边相邻的位置的第二校准标识；第一校准标识配置在从步进方向观察时与形成第二校准标识的位置不重叠的位置上。

主权项

一种接近曝光装置，具备：用于保持作为被曝光材料的基板的基板保持部；与上述基板相对置地保持掩模的掩模保持部；以及照明光学系统，具有多个光源部、积分器、准直镜以及开闭器；该多个光源部分别包括发光部和使从该发光部发出的光带有指向性地射出的反射光学系统，该积分器供来自该多个光源部的光入射，该准直镜将从该积分器射出的光转换为大体平行光，该开闭器进行开闭控制以使来自该光源部的光透射或被遮断；在上述基板与上述掩模之间设置有预定间隙的状态下，将来自上述照明光学系统的光经上述掩模对上述基板进行照射，其特征在于，从上述多个光源部中的至少一个光源部射出的光，以主光轴通过偏离上述积分器的中心的位置的方式，入射到上述积分器上。