[发明专利]曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法

摘要

本发明提供曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法。向长条基板(SH)转印图案的曝光装置具备：使图案移动的工作台机构(MS)；投影光学系统(PL)，其将在第一部分区域(IR1)配置的第一部分图案的放大像以规定倍率投影到第一投影区域(ER1)，且将在与第一部分区域隔开规定的中心间隔的第二部分区域(IR2)配置的第二部分图案的放大像以规定倍率投影到第二投影区域(ER2)；移动机构(SC)，该移动机构(SC)以经由第一投影区域以及第二投影区域的方式使长条基板移动；以及调整机构(50)，该调整机构(50)基于规定倍率以及中心间隔，对从第一投影区域到第二投影区域的长条基板的基板长度进行调整。

主权项

一种曝光方法，该曝光方法将在第一面配置的图案的像投影到长条基板并向该长条基板转印所述图案，所述曝光方法的特征在于，所述曝光方法包括：使所述图案沿着所述第一面朝第一方向移动；将所述图案中的在所述第一面的第一部分区域配置的第一部分图案的放大像以规定倍率投影到第一投影区域；将所述图案中的在从所述第一部分区域沿所述第一方向隔开规定的中心间隔的第二部分区域配置的第二部分图案的放大像，以所述规定倍率投影到与所述第一投影区域不同的第二投影区域；与所述图案朝所述第一方向的移动同步，以经由所述第一投影区域以及所述第二投影区域的方式使所述长条基板沿该长条基板的长边方向移动；基于所述规定倍率以及所述中心间隔，设定所述图案沿着所述第一方向的图案长度、与从所述第一投影区域到所述第二投影区域的所述长条基板的基板长度的至少一方。