[发明专利]溅射靶有效
| 申请号： | 201180004497.9 | 申请日： | 2011-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN102791904A | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 熊原吉一 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 金龙河;樊卫民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种溅射靶，整体为矩形，并且中央的靶部位具有平坦的溅射面，两端的靶部位具有倾斜的溅射面，所述溅射靶的特征在于，所述两端的靶部位的最大厚度比中央的靶部位的厚度大，该两端的靶部位的溅射面具备：从最大厚度部朝向靶中央向下方倾斜的角度α的倾斜面、和与该角度α的倾斜面相对的角度β的倾斜面。提供靶的使用效率高、并且在整个溅射寿命期间膜的均匀度(膜厚的均匀性)良好的靶。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 | ||
【主权项】：
一种溅射靶，整体为矩形，并且中央的靶部位具有平坦的溅射面，两端的靶部位具有倾斜的溅射面，所述溅射靶的特征在于，所述两端的靶部位的最大厚度比中央的靶部位的厚度大，该两端的靶部位的溅射面具备：从最大厚度部朝向靶中央向下方倾斜的角度α的倾斜面、和与该角度α的倾斜面相对的角度β的倾斜面。
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