[发明专利]彩色滤光片基板的曝光方法

摘要

本发明提供一种彩色滤光片基板的曝光方法，使用小型掩膜连续曝光方式，能够在位于彩色滤光片基板的显示区域四边的外侧的非显示区域形成伪PS。如图7(a)所示，一边在Y方向上搬运涂布有光阻剂的基板20，一边对基板20上的第一非显示区域51(右上斜影线所示的区域)的第一层81进行曝光，一边对显示区域的层91进行曝光。其次，使基板20旋转90度，如图7(b)所示，一边在X方向上搬运基板20，一边对第二非显示区域52(右上斜影线所示的区域)的第二层82进行曝光。由此，能够在第一非显示区域51内形成期望的配置间距及形状的伪PS71，在第二非显示区域52内形成期望的配置间距及形状的伪PS72。

主权项

一种彩色滤光片基板的曝光方法，上述彩色滤光片基板具有矩形状的显示区域、一对第一非显示区域以及一对第二非显示区域，在上述显示区域上设置多个着色像素及多个光间隔物，在上述第一非显示区域及第二非显示区域上设置多个伪光间隔物，上述显示区域具有在第一方向上延伸的一对边、以及在与上述第一方向正交的第二方向上延伸的一对边，上述第一非显示区域沿着上述第一方向上的各边，上述第二非显示区域沿着上述第二方向上的各边，该曝光方法具备以下工序：一边在上述第一方向上搬运涂布有光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，在上述第一非显示区域形成构成第一伪光间隔物的第一层的工序；以及一边在上述第二方向上搬运涂布有光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，在上述第二非显示区域形成构成第二伪光间隔物的第二层的工序；形成上述第一层的工序、以及形成上述第二层的工序按任意顺序来进行，上述第一层及上述第二层用与形成上述着色像素的材料不同的材料来形成。