[发明专利]半导体激光器件和半导体激光器件制造方法无效

专利信息
申请号: 201180005910.3 申请日: 2011-11-11
公开(公告)号: CN102714393A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 丹下贵志;冨谷茂隆 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: H01S5/028 分类号: H01S5/028;H01S5/323
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 陈桂香;武玉琴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及半导体激光器件和半导体激光器件制造方法。所述半导体激光器件能够可靠地抑制由于界面氧化和畸变出现而导致的端面劣化。所述半导体激光器件设置有具有相互面对的谐振器端面(108、109)的激光结构部(107),还设置有形成于所述相互面对的谐振器端面中的至少一者上的保护膜(110、120)。所述保护膜(110、120)是由具有多段结构的氮化物电介质膜形成的,所述多段结构的晶体结构从与所述谐振器端面相接触的那一侧起包含非晶层(111、121)和多晶层(112、122)。
搜索关键词: 半导体激光器 制造 方法
【主权项】:
一种半导体激光器件,其包括:激光结构部,所述激光结构部具有相互面对的谐振器端面;以及保护膜,所述保护膜形成于所述相互面对的谐振器端面中的至少一者上,其中,所述保护膜是由具有多段结构的氮化物电介质膜形成的,所述多段结构的晶体结构从与所述谐振器端面相接触的那一侧起包含非晶层和多晶层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼公司,未经索尼公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180005910.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top