[发明专利]正型抗蚀剂组合物及微透镜的制造方法有效
申请号: | 201180007042.2 | 申请日: | 2011-01-19 |
公开(公告)号: | CN102725691A | 公开(公告)日: | 2012-10-10 |
发明(设计)人: | 汤川升志郎;荒濑慎哉;武山敏明;远藤勇树;毛吕健夫 | 申请(专利权)人: | 日产化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G02B3/00;G03F7/023 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 段承恩;田欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明的课题是提供透明性、耐热性、灵敏度特性优异,在显影液中的溶解性优异,其结果适合用于形成分辨率高的微透镜的抗蚀剂组合物。作为解决本发明的课题的方法是一种正型抗蚀剂组合物,其包含下述(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分:(A)成分:碱溶性聚合物、(B)成分:具有进行光分解而产生碱溶性基团的有机基团的化合物、(C)成分:式(1)所示的交联性化合物、(D)成分:溶剂。 |
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搜索关键词: | 正型抗蚀剂 组合 透镜 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种正型抗蚀剂组合物,其包含下述(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分:(A)成分:碱溶性聚合物;(B)成分:具有进行光分解而产生碱溶性基团的有机基团的化合物;(C)成分:式(1)所示的交联性化合物,
R1、R2和R3各自独立地表示碳原子数1~6的可以具有支链的亚烷基或氧亚烷基,E1、E2和E3各自独立地表示包含式(2)或式(3)所示结构的基团,
式中,R4表示氢原子或甲基;(D)成分:溶剂。
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