[发明专利]等离子体氮化处理方法

摘要

一种等离子体氮化处理方法，在等离子体处理装置的处理容器中被处理体进行高氮剂量的等离子体氮化处理后，进行低氮剂量的等离子体氮化处理。在高氮剂量条件的等离子体氮化处理结束后，向同一上述处理容器内导入稀有气体、氮气和氧气，在处理容器内的压力为（532Pa）以上（833Pa）以下、全部处理气体中氧气的体积流量比为（1.5％）以上（5％）以下的条件下，利用添加有微量氧的氮等离子体对处理容器内进行等离子体陈化处理。

主权项

一种等离子体氮化处理方法，其特征在于：将含有氮气的处理气体导入等离子体处理装置的处理容器，生成高氮剂量条件的含氮等离子体，对具有氧化膜的被处理体进行高氮剂量的等离子体氮化处理后，生成低氮剂量条件的含氮等离子体，对被处理体进行低氮剂量的等离子体氮化处理，在所述高氮剂量条件的等离子体氮化处理结束后，向同一所述处理容器内导入稀有气体、氮气和氧气，在所述处理容器内的压力为532Pa以上833Pa以下，且全部处理气体中的氧气的体积流量比为1.5％以上5％以下的条件下，生成添加有微量氧的氮等离子体，利用该添加有微量氧的氮等离子体在所述处理容器内进行等离子体陈化处理。