[发明专利]分析装置有效

专利信息
申请号: 201180007541.1 申请日: 2011-01-27
公开(公告)号: CN102741680A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 稻边利幸;牧野彰久;足立作一郎 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G01N21/49 分类号: G01N21/49
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强;严星铁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供分析装置,使用了散射光的分析装置降低在气泡等异物混入了测定对象的情况下,或附着在反应容器内的情况下产生的噪声的影响,且改善S/N比特性。在与向测定对象照射的光轴垂直的平面上且以光轴为中心的圆周上配置两个以上的检测器,且观察其输出变化,确定并去除受到气泡等异物所带来的噪声的影响的检测器,且使来自检测器的输出平均化。
搜索关键词: 分析 装置
【主权项】:
一种分析装置,该分析装置利用检测器对因光的照射而从测定对象散射的散射光进行测定,其特征在于,在垂直于向上述测定对象照射的上述光的光轴的平面上且以光轴为中心的圆周上至少配置两个检测器。
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