[发明专利]强化结构模件和制造方法有效

专利信息
申请号: 201180007993.X 申请日: 2011-01-31
公开(公告)号: CN102770801A 公开(公告)日: 2012-11-07
发明(设计)人: O·于尔海;M·普特康恩;A·帕卡拉 申请(专利权)人: 贝尼科公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;H01L23/31;H01L51/52;H01L33/52;C03C17/00;C23C16/455
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵蓉民;刘明
地址: 芬兰*** 国省代码: 芬兰;FI
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摘要: 强化结构模件(2)和制造强化结构模件(2)的方法。模件包含基本上平面的玻璃基底(1)、基本上平面的第二基底(3)和在玻璃基底(1)与第二基底(3)之间的至少一个间隔元件(5)。该至少一个间隔元件(5)使玻璃基底(1)与第二基底(3)保持两基底的边缘彼此分离,并限定模件内两基底之间的空间(7)。模件包含在模件外侧周围围绕模件的涂层(9)。涂层(9)被共形安排在朝向模件外侧的表面上,用于增加模件的强度。
搜索关键词: 强化 结构 模件 制造 方法
【主权项】:
强化结构模件(2),包含基本上平面的玻璃基底(1)、基本上平面的第二基底(3)和至少一个间隔元件(5),所述至少一个间隔元件(5)在所述玻璃基底(1)与所述第二基底(3)之间,并接触所述玻璃基底(1)的平面表面和所述第二基底(3)的平面表面,所述至少一个间隔元件(5)使所述玻璃基底(1)与所述第二基底(3)保持两基底的边缘彼此分离,并在所述模件(2)内限定在所述两基底之间的空间(7),其特征在于所述模件(2)包含在所述模件(2)外侧周围围绕所述模件(2)的涂层(9),所述涂层(9)被共形地安排在所述玻璃基底(1)、第二基底(3)和至少一个间隔元件(5)上,在朝向所述模件外侧的表面(2)上,用于增加所述模件(2)的强度。
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