[发明专利]溅射靶材的制造方法及溅射靶材有效

专利信息
申请号: 201180009351.3 申请日: 2011-04-11
公开(公告)号: CN102753722A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 萩原淳一郎;东秀一;神原正三 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C22C21/12
代理公司: 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 代理人: 武晨燕;张颖玲
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种兼有靶材所要求的结晶特性和背板所要求的机械强度的溅射靶材及其制造方法。本发明的一实施方式中的溅射靶材的制造方法在形成支撑部(12)时,将金属板(100)维持在规定温度以下的同时对金属板(100)的周边部进行旋转加工。上述规定温度例如可设定为能够抑制由退火效果引起的内部应力的缓和的适宜温度。通过采用旋转加工法形成支撑部,可以对整个支撑部(12)附加应力。由此,可通过加工硬化来实现支撑部(12)的整体的强度提高。另外,由于随着加工而超过支撑部(12)的规定温度的温度上升被阻止,所以可抑制由结晶组织的回复引起的支撑部(12)的硬度下降。
搜索关键词: 溅射 制造 方法
【主权项】:
一种溅射靶材的制造方法,包括:形成组织控制的圆盘状的金属板;通过将所述金属板维持在规定温度以下的同时利用旋转加工使所述金属板的周边部拉深变形,在所述金属板的周边部形成环状的支撑部。
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