[发明专利]氧化铜用蚀刻液以及使用其的蚀刻方法有效
| 申请号： | 201180009575.4 | 申请日： | 2011-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN102753651A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 中川义清;中田卓人;三田村哲理 | 申请（专利权）人： | 旭化成株式会社 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;G03F7/004;G03F7/32 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 徐申民;李晓 |
| 地址： | 日本国大阪府大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供：使用作为热反应型抗蚀剂材料的铜的氧化物在激光下曝光的时候，能选择性的蚀刻曝光、未曝光部分的氧化铜用蚀刻液以及使用其进行蚀刻的方法。本发明的氧化铜用蚀刻液，其特征在于，选择性蚀刻以铜的氧化物作为主成分的氧化铜含有层中的氧化数不同的氧化铜，至少含有螯合剂或其盐。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化铜 蚀刻 以及 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种氧化铜用蚀刻液，其用于选择性蚀刻以铜的氧化物为主成分的氧化铜含有层中的氧化数不同的氧化铜，其特征在于，至少含有螯合剂或其盐。
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