[发明专利]用于汽相淀积源的等容关闭阀有效
申请号: | 201180009699.2 | 申请日: | 2011-02-15 |
公开(公告)号: | CN102762765A | 公开(公告)日: | 2012-10-31 |
发明(设计)人: | B·迪赛尔-维达莱;C·格拉尔 | 申请(专利权)人: | 阿斯特朗非凡安全有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 赵培训 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明描述了一种汽相淀积源,所述汽相淀积源包括配备有两个区域的容器。第一区域用于产生蒸汽。所述第一区域配备有材料接收器和用于加热放置在接收器中的材料的装置。第二区域是包括与蒸汽产生区域连通的容器的扩散区域,所述第二区域配备有至少一个开口,以便使得汽相材料通过所述开口朝着容器的外部传送。所述源的特征在于,它包括用于关闭该孔的关闭装置和用于使所述关闭装置在主动关闭位置与孔的打开位置之间运动而不会改变扩散区域的容积的装置。 | ||
搜索关键词: | 用于 汽相淀积源 关闭 | ||
【主权项】:
汽相材料淀积源(10),所述汽相材料淀积源包括配备有两个区域的容器:蒸汽产生区域(20),所述蒸汽产生区域配备有材料接收器和用于加热放置在所述接收器中的材料的装置;与所述蒸汽产生区域连通的扩散区域,所述扩散区域配置有至少一个孔(30),以便使得所述汽相材料通过所述孔朝着所述容器的外部传送;所述淀积源的特征在于:‑所述淀积源包括用于关闭所述孔的关闭装置和用于使所述关闭装置在主动关闭位置和所述孔(30)的打开位置之间运动的装置,‑所述淀积源具有蒸汽扩散喷嘴形式的一系列的所述孔(30),‑所述扩散区域包括具有圆筒形本体的扩散器(50),所述蒸汽扩散喷嘴并排放置于所述圆筒形本体上,‑所述关闭装置包括与所述扩散器(50)的内表面接触的圆筒形套筒(70),所述圆筒形套筒(70)一方面包括能将位置调整至对准于打开位置的多个所述蒸汽扩散喷嘴的多个开口(73),另一方面,包括与所述蒸汽产生区域相对的开口(71)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的