[发明专利]用于在基材上沉积层的设备和方法

摘要

本发明涉及一种用于在物体(20)上沉积由至少两种成分制成的层的设备，其具有用于布置该物体的沉积室(11)，至少一个具有待沉积的材料的源(12)，以及至少一个用于控制沉积过程的装置(40)，该设备如此配置：使得可以在沉积到基材上之前，通过选择性结合特定量的所述至少一种成分来在待沉积的材料的气相中改变其至少一种成分的浓度，其中该至少一种成分的选择性结合的量可以通过改变至少一种控制参数来进行控制，该参数主动偶合到所述组分的结合率。此外，涉及一种用于在物体上沉积由至少两种成分制成的层的设备，其中用于控制沉积过程的装置具有由反应性材料制成的至少一个吸气元件，其中该反应性材料包括铜和/或钼。还涉及一种用于在物体上沉积由至少两种成分制成的层的方法，其中至少一种成分的选择性结合的量是通过改变用于控制沉积过程的装置的结合率来控制的。

主权项

用于在物体(20)上沉积由至少两种成分制成的层的设备(10)，其包含：‑用于布置该物体(20)的沉积室(11)，‑至少一个具有待沉积的材料(30)的源(12)，‑至少一个用于控制沉积过程的装置(40)，该装置(40)如此配置：使得在沉积到该物体(20)上之前，在待沉积材料的气相中该待沉积材料的至少一种成分的浓度能够通过选择性结合一定量的所述至少一种成分而改变，其中该至少一种成分的选择性结合的量能够通过改变至少一种与该至少一种成分的结合率主动偶合的控制参数来控制。