[发明专利]图案形成方法及抗蚀剂组成物有效
| 申请号： | 201180010800.6 | 申请日： | 2011-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN102844710A | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 岩户薰;片冈祥平;樽谷晋司;上村聪;加藤启太;榎本雄一郎;水谷一良;土桥彻;藤井佳奈 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜，其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团，所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 抗蚀剂 组成 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，其特征在于，包括：(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜，其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解以藉此产生醇羟基的基团，所述树脂在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度；(B)将所述膜曝光；以及(C)使用含有所述有机溶剂的所述显影剂使经曝光的所述膜显影。
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