[发明专利]图案形成方法

摘要

本发明的目的在于提供一种图案形成方法，其能够促进硅烷偶联剂的分解反应，缩短作业时间。本发明包括：在基板（1）上配置由通式（1）表示的硅烷偶联剂（2），针对硅烷偶联剂（2）使光催化剂（3）存在的工序，和对硅烷偶联剂（2）和光催化剂（3）照射包含硅烷偶联剂（2）和光催化剂（3）的吸收波长的光的光L的工序。（下述式中，R1表示因光照射而发生脱离的光反应性保护基团，R2表示由于R1的脱离而产生具有与R1不同的亲疏液性的官能团的有机基团，X1表示烷氧基或卤素原子，X2、X3表示选自氢原子、烷基、烯基、烷氧基、卤素原子中的取代基。X1、X2、X3可以相同也可以不同。）R1-R2-SiX1X2X3    …(1)

主权项

一种图案形成方法，其特征在于，是在对象物的被处理面形成所希望的图案的图案形成方法，包括：在所述被处理面配置由通式（1）表示的硅烷偶联剂，在所述被处理面上针对所述硅烷偶联剂使光催化剂存在的工序，和对所述硅烷偶联剂和所述光催化剂，照射光的工序，其中所述光包含所述硅烷偶联剂和所述光催化剂的吸收波长的光；R1‑R2‑SiX1X2X3    …(1)式中，R1表示因光照射而发生脱离的光反应性保护基团，R2表示由于R1脱离而产生具有与R1不同的亲疏液性的官能团的有机基团，X1表示烷氧基或卤素原子，X2、X3表示选自氢原子、烷基、烯基、烷氧基、卤素原子中的取代基，X1、X2、X3可以相同也可以不同。