[发明专利]光学元件有效
| 申请号： | 201180013633.0 | 申请日： | 2011-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN102812386A | 公开（公告）日： | 2012-12-05 |
| 发明（设计）人： | 楠幸久 | 申请（专利权）人： | 住友电工硬质合金株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 丁业平;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光学元件，其包括衬底基材和红外减反射膜红外抗反射膜抗红外反射红外抗反射膜。这种所述衬底基材由ZnSe制成，并且红外减反射膜所述红外抗反射膜抗红外反射红外抗反射膜形成在衬底所述基材的至少一个表面上形成。红外减反射膜所述红外抗反射膜抗红外反射红外抗反射膜包括包括包含由BaF2制成的低折射率层、由ZnSe、ZnS或Ge制成的高折射率层和由非晶形材料性或各向异性材料制成的中间层。通过采用这种结构，可以在不使用ThF4的情况下产生制备出具有高透射比透射率高且和小表面粗度表面粗糙度小的光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 | ||
【主权项】：
一种光学元件，其包括：基材；以及红外抗反射膜；其中所述基材包含ZnSe，其中所述红外抗反射膜形成在所述基材的至少一个表面上，并且包括主要由BaF2制成的低折射率层，由ZnSe、ZnS或Ge制成的高折射率层，以及由非晶形材料或各向异性材料制成的中间层，其中所述红外抗反射膜的表面粗糙度Ra小于或等于3nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友电工硬质合金株式会社，未经住友电工硬质合金株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180013633.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：植物病害防治组合物和防治植物病害的方法
- 下一篇：保护继电装置
