[发明专利]等离子处理装置

摘要

本发明提供一种在反应气体的反应成分容易凝结的情况下也能够防止其在喷嘴的内部凝结且能够避免短路等不良情况的等离子处理装置。在等离子处理装置(1)的一对电极(11、12)之间形成放电空间(13)，向被处理物(9)照射等离子。喷嘴(20)配置在一对电极(11、12)的至少一方或放电空间(13)的附近。从喷嘴(20)向被处理物(9)喷出含有凝结性的反应成分的反应气体。通过喷嘴温度调节机构(30)对喷嘴(20)的温度进行调节。在喷嘴(20)内形成温度调节路(32)作为温度调节机构(30)，并使温度调节液流动。通过液温调节部(31)以成为比反应成分的凝结温度高的高温的方式对温度调节液进行调节。

主权项

一种等离子处理装置，使含有凝结性的反应成分的反应气体与被处理物接触并且照射等离子，所述等离子处理装置的特征在于，具备：一对电极，在所述一对电极相互之间形成用于所述等离子照射的接近大气压的放电空间；喷嘴，该喷嘴的具有喷出口的前端部由绝缘体构成，且所述前端部配置在所述一对电极的至少一方或所述放电空间的附近，使所述反应气体从所述喷出口喷向所述被处理物；喷嘴温度调节机构，其调节所述喷嘴的温度，所述喷嘴温度调节机构包括：温度调节路径，其形成在所述喷嘴上而供温度调节液通过；液温调节部，其以从所述电极及所述喷嘴分离的方式配置，且将所述温度调节液的温度调节成比所述反应气体中的反应成分的凝结温度高的高温；管路，其将所述液温调节部和所述温度调节路径连结。