[发明专利]膜表面处理装置

摘要

本发明提供膜表面处理装置，在使含有反应成分的反应气体活化而对被处理膜进行表面处理时能够使反应成分充分反应，并防止在电极上附着污垢。在主处理部(10)的第一辊电极(11)及第二辊电极(12)上卷挂被处理膜(9)。通过辊电极(11、12)的旋转使被处理膜(9)从电极(11)向电极(12)输送。从喷嘴(23)向比电极(11、12)间的主放电空间(19)靠输送方向的上游侧的位置或放电空间(19)内的膜(19)上喷出反应气体。在比主处理部(10)靠输送方向的下游的位置设置再活化部(30)。优选，使再活化部(30)的后段电极(31)与第二辊电极(12)对置，将第二辊电极(12)兼用作再活化部(30)的另一方的后段电极。从气体供给部(33)向电极(31、12)之间供给不含有反应成分的放电生成气体。

主权项

一种膜表面处理装置，其在输送连续的被处理膜的同时，使反应成分活化而在所述被处理膜的表面上进行反应，所述膜表面处理装置的特征在于，具备配置在所述输送方向的相对上游侧的主处理部和配置在所述输送方向的相对下游侧的再活化部，所述主处理部包括：第一辊电极及第二辊电极，所述第一辊电极及第二辊电极以在相互之间形成接近大气压的主放电空间的方式平行配置；喷嘴，所述喷嘴朝向所述被处理膜的比所述主放电空间靠所述输送方向的上游侧的部分或朝向所述主放电空间喷出含有所述反应成分的反应气体，所述被处理膜卷挂在所述第一辊电极上，并在通过所述主放电空间后折返而卷挂在所述第二辊电极上，所述第一辊电极及第二辊电极分别绕各自的轴线而彼此向相同的方向旋转，由此所述被处理膜从所述第一辊电极向所述第二辊电极输送，所述再活化部包括：一对后段电极，所述一对后段电极在相互之间形成有接近大气压的再放电空间；气体供给部，所述气体供给部向所述后段电极间供给不含所述反应成分的放电生成气体，所述被处理膜通过所述再放电空间，且所述一对后段电极的对置面均为平面，或者为平面和凸圆筒面，或者为凹圆筒面和凸圆筒面。