[发明专利]基板保持装置有效

专利信息
申请号: 201180016263.6 申请日: 2011-03-16
公开(公告)号: CN102870205A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 森本直树;石田正彦 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 代理人: 齐永红
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种基板保持装置(ES),用于在实施等离子处理的处理室内吸附基板。所述装置在等离子处理过程中也能掌握基板的翘曲,并且,以适当的吸附力吸附基板而不致基板破损或诱发异常放电。其包括:卡盘本体,其具有正负电极(3a、3b);卡板(2),其具有可与基板的外周边部面接触的挡边部(2a)及在所述挡边部围绕出的内部空间(2b)中以规定间隔竖直设立的多个支持部(2c);直流电源(E1),其在两电极间施加直流电压;提供流经卡板的静电电容的交流电流的电源(E2)及测量此时的交流电流的第一测量装置(M)。而且,设置有去除装置(F),其在等离子处理过程中,从发生在处理室内的等离子体去除与所述交流电流重叠的交流成分。
搜索关键词: 保持 装置
【主权项】:
一种基板保持装置,用于在进行等离子处理的处理室内吸附基板,其特征在于包括:卡盘本体,其具有正负电极;作为电介质的卡板,其具有在可与基板的外周边部面接触的挡边部及在所述挡边部所围绕出的内部空间中以规定间隔竖直设立的多个支持部;直流电源,其向两电极间施加直流电压;第一测量装置,其测量通过卡板的静电电容的交流电流;以及设置有去除装置,其在所述等离子处理过程中,从处理室内发生的等离子体去除重叠于所述交流电流的交流成分。去除叠加于所述交流电流的来自于等离子处理过程中处理室内产生的等离子体的交流成分。
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