[发明专利]用于减少颗粒的真空限束孔清洁

摘要

提供一种用于减小离子注入系统（100）中的颗粒污染的方法和系统，其中离子注入注入系统具有源（120）、质量分析器（136）、解析孔（138）、减速抑制板（146）以及终端站（106）。通过离子源形成离子束（114），而工件（110）在外部环境和用于离子注入的终端站之间转移。在转移工件的同时，调制施加到减速抑制板的减速抑制电压（148），使离子束扩张和收缩，其中解析孔的一个或更多表面及/或在解析孔下游的一个或更多部件受到离子束的冲击，其中减小由于之前沉积的物质残留在所述一个或更多表面上而造成的以后对工件的污染。通过移除之前沉积的物质或者将之前沉积的物质有力地附着到所述一个或更多表面，能够减轻污染。

主权项

一种用于减小离子注入系统中的颗粒污染的方法，所述方法包括：提供离子注入系统，所述离子注入系统具有离子源、位于质量分析器的出口附近的解析孔、位于解析孔的下游的减速抑制板，以及构造成在离子注入工件期间支撑工件的终端站；通过离子源形成离子束；施加减速抑制电压到减速抑制板，其中选择性地从离子束剥离电子并聚焦离子束；在终端站和外部环境之间转移工件；及大致在工件转移的同时调制减速抑制电压，其中扩张和收缩离子束的高度及/或宽度，其中解析孔的一个或多个表面被扩张和收缩的离子束冲击，其中大致减小由于之前沉积的物质残留在所述一个或多个表面上而造成的以后对工件的污染。