[发明专利]转印用施主衬底、器件的制造方法及有机EL元件无效
| 申请号： | 201180017742.X | 申请日： | 2011-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN102845134A | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 谷村宁昭;藤森茂雄;西村诚一郎 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;G09F9/00;G09F9/30;H01L21/336;H01L27/32;H01L29/786;H01L51/05;H01L51/42;H01L51/50 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种即使在利用转印法的情况下也可制作高性能的有机EL元件的施主衬底，并提供一种以杂质少的高性能有机EL元件为代表的器件。 | ||
| 搜索关键词： | 转印用 施主 衬底 器件 制造 方法 有机 el 元件 | ||
【主权项】：
一种转印用施主衬底，其特征在于，包括：衬底；形成在所述衬底上的光热转换层；至少一部分形成在所述光热转换层上表面的分区图案，在所述分区图案表面形成有阻挡层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东丽株式会社，未经东丽株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180017742.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
