[发明专利]导电性高分子蚀刻用墨液及导电性高分子的图案化方法有效
| 申请号： | 201180018325.7 | 申请日： | 2011-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN102858915A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 西村康雄;井原孝;田口裕务 | 申请（专利权）人： | 鹤见曹达株式会社;东亚合成株式会社 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00;H01B13/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供对导电性高分子具有优异的蚀刻能力、所得到的图案的精度高的导电性高分子蚀刻用墨液、以及使用前述导电性高分子蚀刻用墨液的导电性高分子的图案化方法。本发明的导电性高分子蚀刻用墨液，其特征在于，其包含导电性高分子用蚀刻剂、增稠剂、及水系介质。另外，本发明的导电性高分子的图案化方法是使用前述导电性高分子蚀刻用墨液的图案化方法。 | ||
| 搜索关键词： | 导电性 高分子 蚀刻 用墨 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种导电性高分子蚀刻用墨液，其特征在于，包含导电性高分子用蚀刻剂、增稠剂及水系介质。
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