[发明专利]晶体半导体材料的制备有效

专利信息
申请号: 201180019046.2 申请日: 2011-04-11
公开(公告)号: CN103038004A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: U·克拉特;C·施密德;J·哈恩 申请(专利权)人: 施米德硅晶片科技有限责任公司
主分类号: B22D27/04 分类号: B22D27/04;C01B33/02;C30B15/00;C30B29/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;林森
地址: 德国弗罗*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种制造晶体半导体材料的方法,其中将半导体材料的颗粒和/或半导体材料的前体化合物供入到具有足够高温的气流中,以便将半导体材料的颗粒由固态转变为液态和/或气态和/或以便热分解前体化合物。在又一步骤中,液态半导体材料从气流中冷凝和/或分离出来并转变成固态,形成单晶或多晶结构。
搜索关键词: 晶体 半导体材料 制备
【主权项】:
制造晶体半导体材料特别是晶体硅的方法,包括以下步骤:·向气流中供送半导体材料的颗粒和/或半导体材料的前体化合物,其中,所述气流具有足够高的温度,以将半导体材料的颗粒由固态转变成液态和/或气态,和/或以将所述前体化合物热分解,·从所述气流中冷凝出和/或分离出液态半导体材料,·将液态半导体材料转变成固态,形成单晶或多晶晶体结构。
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