[发明专利]取向处理方法及取向处理装置有效
| 申请号： | 201180020598.5 | 申请日： | 2011-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN102906635A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 梶山康一;新井敏成;水村通伸 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/13 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本国神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种取向处理方法及取向处理装置，其使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组（6A）和第二掩模图案组（6B）的光掩模（7）靠近对置，将该基板（4）在与所述第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）交叉的方向上移动，第一掩模图案组（6A）以一定的排列间距形成细长状的多个开口，第二掩模图案组（6B）与该第一掩模图案组（6A）平行地设置且以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成细长状的多个开口，对所述光掩模（7）的第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）分别照射入射角度（θ）为不同的P偏振光，在所述取向膜上交替地形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。由此，通过一次取向处理来形成取向状态不同的二种条纹状的取向区域并缩短取向处理工序的节拍。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种取向处理方法，其特征在于，使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组和第二掩模图案组的光掩模靠近对置，并使所述基板在与所述第一及第二掩模图案组交叉的方向上移动，所述第一掩模图案组以一定的排列间距形成了细长状的多个开口，第二掩模图案组与该第一掩模图案组平行地设置，且以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成了细长状的多个开口，对所述光掩模的第一及第二掩模图案组分别照射偏振方向和入射角度当中的至少一个为不同的偏振光，在所述取向膜上交替地形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。
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