[发明专利]具有倾斜边缘的晶片载体

摘要

一种晶片载体(140)，包括主体，主体限定中心轴(142)、垂直于中心轴(142)且基本为平面的顶面(141)，低于顶面(141)凹陷以容纳晶片(50)的容纳部(143)。晶片载体(140)的主体可包括沿顶面(141)外周向上突出的唇部(180)。唇部(180)可限定从平顶面(141)向外，远离中心轴(142)以径向向外的方向倾斜的唇表面(181)。晶片载体(140)的主体可适于安装在处理装置(10)的转轴(30)上，使得主体的中心轴(142)与转轴(30)同轴。唇部(180)可改善晶片载体(140)的顶面(141)上方气体的流动模式。

主权项

晶片载体，包括主体，所述主体限定中心轴、垂直于所述中心轴且基本为平面的顶面、低于所述顶面凹陷以容纳晶片的容纳部，所述主体包括沿所述顶面的外周向上突起的唇部，所述唇部限定唇表面，所述唇表面从所述平顶面以远离所述中心轴径向向外的方向向上倾斜，所述主体适于安装在处理装置的转轴上，使得所述主体的所述中心轴与所述转轴同轴。