[发明专利]催化剂表面体去除装置有效
| 申请号： | 201180021918.9 | 申请日： | 2011-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN102883810A | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | 石井悠辅;古谷泰章;福薗敏彦 | 申请（专利权）人： | 旭化成化学株式会社 |
| 主分类号： | B01J23/90 | 分类号： | B01J23/90;B01J23/28;B01J38/04;C07C253/24;C07C255/08;C07B61/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种高效地从催化剂去除从催化剂表面渗出和／或附着于催化剂表面的物体（催化剂表面体）的装置。该装置具有主体，通过使气流与收容在上述主体内的催化剂相接触，将存在于催化剂表面上的催化剂表面体从催化剂去除，其中，上述气流的流动方向上的气流长度是55mm以上，并且在换算为摄氏15℃、1标准大气压下的线速度的情况下，上述气流的平均流速是80m／s～500m／s。 | ||
| 搜索关键词： | 催化剂 表面 去除 装置 | ||
【主权项】：
一种催化剂表面体去除装置，其具有主体，通过使气流与收容在上述主体内的催化剂相接触，将存在于催化剂表面的催化剂表面体从催化剂去除，其中，上述气流的流动方向上的气流长度是55mm以上，并且在换算为摄氏15℃、1标准大气压下的线速度的情况下，上述气流的平均流速是80m／s～500m／s。
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