[发明专利]具有不连续的半导体部分的微电子装置及制作这种装置的方法有效

专利信息
申请号: 201180022483.X 申请日: 2011-05-03
公开(公告)号: CN102884647A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 罗曼·格沃齐茨基;罗曼·科普帕尔德 申请(专利权)人: 法国原子能及替代能源委员会
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L27/28
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 李静;张云肖
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种微电子装置(100),包括:多个相似的不连续的半导体部分(104),所述半导体部分彼此电隔离并且形成半导体层(102),所述半导体部分以恒定的距离隔开并且包括与其他部分平行的形状;以及两个电极(108a、108b、108c、108d),所述电极设置成与半导体层接触,使得分隔两个电极的最大距离小于一个半导体部分的最大尺寸,其中,设置半导体部分的形状和尺寸、半导体部分之间的间距、电极的形状和尺寸以及电极相对于半导体部分的布局,使得至少一个半导体部分将两个电极彼此电连接,并且其中,半导体部分的最大尺寸垂直于电极的最大尺寸,所述电极是相似的。
搜索关键词: 具有 连续 半导体 部分 微电子 装置 制作 这种 方法
【主权项】:
一种微电子装置(100),包括:多个不连续的半导体部分(104),具有相似的尺寸LSC、WSC以及相似的形状,所述半导体部分彼此电隔离并且形成半导体层(102),每个半导体部分(104)与相邻的半导体部分(104)的间距为基本上恒定的距离ESCH、ESCV并且具有细长形状,每个半导体部分的最大尺寸LSC与其他半导体部分(104)的最大尺寸LSC大致平行,至少两个电极(108a、108b、108c、108d),所述电极设置成与半导体层(102)接触,使得分隔所述两个电极(108a、108b、108c、108d)的最大距离L通道小于其中一个所述半导体部分(104)的最大尺寸LSC,其中,设置所述半导体部分(104)的形状和尺寸LSC、WSC,所述半导体部分(104)之间的间距ESCH、ESCV,所述电极(108a、108b、108c、108d)的形状和尺寸LSD、WSD以及所述电极(108a、108b、108c、108d)相对于所述半导体部分(104)的布局,使得至少一个所述半导体部分(104)将所述两个电极(108a、108b、108c、108d)彼此电连接,并且其中,所述半导体部分(104)的最大尺寸LSC大致垂直于所述电极(108a、108b、108c、108d)的最大尺寸WSD,所述电极(108a、108b、108c、108d)具有相似的形状和尺寸WSD、LSD。
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