[发明专利]聚合物驻极体薄膜的拓扑和电纳米构造方法和所获得的聚合物驻极体薄膜无效

专利信息
申请号: 201180023039.X 申请日: 2011-04-22
公开(公告)号: CN102939564A 公开(公告)日: 2013-02-20
发明(设计)人: L·雷西耶;E·帕洛 申请(专利权)人: 图卢兹国立应用科学学院;国立科学研究中心
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;B29C43/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 蔡洪贵
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种聚合物驻极体薄膜(6)的纳米构造方法,称为“电纳米印刷”方法,其中,模具(2)的表面(4),即构造表面被设置成与聚合物驻极体薄膜(6)的自由表面,即被处理表面(5)的至少一部分接触,通过使构造表面(4)在聚合物驻极体薄膜(6)的表面(5)施加压力,在所述聚合物驻极体薄膜(6)中形成与模具的构造图案相反对应的纳米图案,在一段预先确定的时间段T2期间,在所述构造表面(4)和膜(6)的后表面(7)之间施加电压,所述时间段适于在取消所施加的电压之后在聚合物驻极体薄膜中形成的纳米图案的顶部和底部之间感应出静电荷差异分布。
搜索关键词: 聚合物 驻极体 薄膜 拓扑 纳米 构造 方法 获得
【主权项】:
一种聚合物驻极体薄膜(6)的构造方法,所述聚合物驻极体薄膜具有自由表面和相反的表面,所述自由表面即被处理表面(5),所述相反的表面即后表面(7),其中:‑在第一步骤中,使模具(2)的表面、即构造表面(4)与所述聚合物驻极体薄膜(6)的被处理平表面(5)的至少一部分接触,所述构造表面包括浮凸纳米图案、即构造图案,并且由导体或半导体材料形成,‑在第二步骤中,通过在T1时间段期间使构造表面(4)在所述聚合物驻极体薄膜(6)的所述被处理表面(5)上施加压力,在所述聚合物驻极体薄膜(6)中形成纳米图案,所形成的所述纳米图案具有顶部和底部,其特征在于:‑在第三步骤中,在聚合物驻极体薄膜(6)中形成所述纳米图案之后一段时间段T2期间,在模具的所述构造表面(4)和所述聚合物驻极体薄膜(6)的所述后表面(7)之间施加电压,所述时间段适于在所形成图案的顶部和底部之间感应出静电荷差异分布,并且‑在第四步骤中,停止施加电压并且将模具(2)从所述聚合物驻极体薄膜(6)的表面上撤去。
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