[发明专利]在靶的背面具有沟的磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201180024211.3 | 申请日： | 2011-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN103080369A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 佐藤敦 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁性材料溅射靶，其为厚度1~10mm的圆板状磁性材料溅射靶，其特征在于，在该靶的背面具有至少一个宽度5~20mm、深度0.1~3.0mm、以该圆板状靶的中心为中心的圆沟，各沟的间隔为10mm以上，并且在所述沟中填入有热导率为20W/m·K以上的非磁性材料。本发明的课题在于，为了消除靶为磁性材料时的缺点，进行使漏磁通密度增大的设计，增大等离子体的扩展，并且提高沉积速度，从而增加溅射效率，并且抑制局部的侵蚀，将靶表面的侵蚀均匀化，提高磁性材料靶的使用效率。 | ||
| 搜索关键词： | 背面 具有 磁性材料 溅射 | ||
【主权项】：
一种磁性材料溅射靶，其为厚度1~10mm的圆板状磁性材料溅射靶，其特征在于，在该靶的背面具有至少一个宽度5~20mm、深度0.1~3.0mm、以该圆板状靶的中心为中心的圆沟，各沟的间隔为10mm以上，并且在所述沟中填入有热导率为20W/m·K以上的非磁性材料。
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