[发明专利]光电子半导体芯片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201180024376.0 申请日: 2011-04-29
公开(公告)号: CN102893407A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: W.贝格鲍尔;L.赫佩尔;P.德雷希泽尔;C.克尔佩尔;M.施特拉斯堡;P.罗德 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
主分类号: H01L31/0236 分类号: H01L31/0236
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 杜荔南;卢江
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 说明一种具有半导体层堆叠(2)和辐射出射面或辐射入射面(3)的光电子半导体芯片(10)。半导体层堆叠(2)具有活性层(2a),其适于生成或者接收电磁辐射。在半导体层堆叠(2)中和/或在辐射出射面或辐射入射面(3)上布置多个纳米结构(4),这些纳米结构至少部分地具有至少一个子结构(41、42)。此外说明一种用于制造这种光电子半导体芯片(10)的方法。
搜索关键词: 光电子 半导体 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
具有半导体层堆叠(2)和辐射出射面或辐射入射面(3)的光电子半导体芯片(10),其中‑ 半导体层堆叠(2)具有活性层(2a),该活性层适于生成或者接收电磁辐射,并且‑在半导体层堆叠(2)中和/或在辐射出射面或辐射入射面(3)上布置多个纳米结构(4),所述纳米结构至少部分地具有至少一个子结构(41,42)。
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