[发明专利]纳米颗粒抗反射层有效
| 申请号： | 201180024566.2 | 申请日： | 2011-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN103081111A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | R·德瓦勒;M·何宾克;A·波尔曼 | 申请（专利权）人： | 荷兰能源研究中心基金会 |
| 主分类号： | H01L31/0216 | 分类号： | H01L31/0216;G02B1/11 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了供光学元件或光电器件使用的薄膜宽带抗反射层，其中该薄膜宽带抗反射层包括：至少一层薄膜介电层；和置于所述薄膜介电层之上或其内的纳米颗粒的至少一个阵列，其中所述纳米颗粒的介电常数显著不同于所述介电层的介电常数。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 颗粒 反射层 | ||
【主权项】：
供光学元件或光电器件使用的薄膜宽带抗反射层，它包括：至少一层薄膜介电层；置于所述薄膜介电层之上或其内的至少一个阵列的纳米颗粒，其中所述纳米颗粒的介电常数显著不同于所述介电层的介电常数。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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