[发明专利]可旋转式磁控管的靶利用率提高在审
| 申请号： | 201180024951.7 | 申请日： | 2011-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN103003469A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 丹尼斯·R·霍拉斯 | 申请（专利权）人： | 纳沃萨恩公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 贾媛媛;郑霞 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了用于沉积来自靶的材料同时减轻过早烧穿问题的可旋转式磁控溅射装置。所述可旋转式磁控溅射装置包括缠绕在极片上的电线圈，用于调节磁控管磁性组装件的末端处的磁场。通过改变电流的方向，使溅射区域在其正常中心位置周围交替地移动，从而降低靶材料的末端处腐蚀深度的速率。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转 式磁控管 利用率 提高 | ||
【主权项】：
一种在圆柱形可旋转式磁控管中使用的磁性组装件，包括：第一磁体，其朝向所述磁性组装件的中心部分安设，所述第一磁体具有第一磁定向；第二磁体，其朝向所述磁性组装件的外围部分安设，所述第二磁体具有与所述第一磁定向相反的第二磁定向；以及介于所述第一磁体和第二磁体之间的一个或多个电磁线圈，所述一个或多个电磁线圈缠绕在一个或多个极片周围，所述一个或多个电磁线圈配置用于提供具有第三磁定向的磁场，所述第三磁定向与所述第一磁定向和第二磁定向中的一个相平行并且与所述第一磁定向和第二磁定向中的另一个相反。
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