[发明专利]吸收剂以及包含该吸收剂的用于光学元件的钝化层有效
| 申请号： | 201180025510.9 | 申请日： | 2011-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN102905785A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 金石基;徐荣成;尹景根 | 申请（专利权）人： | 可隆工业株式会社 |
| 主分类号： | B01J20/22 | 分类号： | B01J20/22;C07F5/00;H01L51/50;H01L31/042 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 黄丽娟;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种吸收剂以及包含该吸收剂的用于光学元件的钝化层，更具体而言，涉及一种可以应用于挠性基板的吸收剂，其阻挡水进入，不阻挡光，以及包含该吸收剂的用于光学元件的钝化层。此外，本发明涉及一种吸收剂，通过使用惰性溶剂合成的化合物，使对光学元件的损害最小化，而能够长时间保持发光性能，本发明涉及包含该吸收剂的用于光学元件的钝化层。 | ||
| 搜索关键词： | 吸收剂 以及 包含 用于 光学 元件 钝化 | ||
【主权项】：
1.一种吸收剂，包含使用惰性溶剂制备的由下面化学式1表示的化合物：化学式1：![]()
其中，所有R1彼此可以是相同或不同的基团，选自C数为至少10的烷基、环烷基和芳基中；M选自三价金属中；以及X是1～1000的整数。
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